Der Neubau der Chipfabrik in Itzehoe vereint anspruchsvolle Industriearchitektur mit modernster Reinraumtechnik für die Halbleiterfertigung. Das Reinraumgebäude wurde konsequent auf die Anforderungen hochpräziser Produktionsprozesse ausgerichtet und erfüllt höchste Reinraumanforderungen nach DIN EN ISO 14644-1 (Klassen 3–6). Schwingungsarmut, präzise Klimaführung und eine leistungsfähige technische Infrastruktur schaffen optimale Bedingungen für die Fertigung hochsensibler Halbleiterkomponenten.

Die architektonische und konstruktive Planung folgt den komplexen Anforderungen der Produktion. Eine massive Stahlbetonkonstruktion minimiert Schwingungen und gewährleistet dauerhaft stabile Bedingungen für die hochpräzise Fertigung. Das Herzstück der Anlage bildet ein rund 4.000 m² großer Reinraum, der konstant bei 22°C und 43% Luftfeuchtigkeit betrieben wird. Ergänzt wird die Produktion durch eine vollständig digitalisierte Infrastruktur mit KI-gestützter Prozessüberwachung und modernster Automatisierung.

Die Gebäudestruktur entwickelt sich konsequent aus den funktionalen Anforderungen der Fertigung. Der viergeschossige Reinraumkomplex wird durch einen ebenfalls viergeschossigen Kopfbau mit Eingangsbereich, Logistik, Sozial- und Technikflächen ergänzt. Ein separates Versorgungsgebäude ist über eine Medienbrücke angebunden und beherbergt die technische Infrastruktur.

Die Fassadengestaltung greift die Präzision der Fertigung gestalterisch auf. Sanft ansteigende Fassadenlinien reduzieren die Massivität des Baukörpers, während unregelmäßig angeordnete Öffnungen und unterschiedlich gekantete Trapezprofile ein abstraktes, an einen Strichcode erinnerndes Fassadenbild erzeugen. Der goldschimmernde Farbton nimmt Bezug auf die am Standort gefertigten Waferplatten und verleiht dem Gebäude eine prägnante Identität.

Die Generalplanung einschließlich Reinraum- und Reinstmedienplanung erfolgte durch CRC Clean Room Consulting GmbH.